半導體解決方案

光刻机：超大样品型（600mm尺寸），大样品型（8,12inch），小样品型（4.6inch），单面，双面，以及无掩模光刻机（直写）等。

光刻机

真空类加工设备   

测试类

3D轮廓仪

椭偏仪

显微镜及探针台光电测试系统（可根据客户要求定制）

提供半导体加工及测试全套工艺流程指导。只需要提供光刻掩膜版，即可帮助客户做出样品，

客户采购后为客户提供全套设备详细工艺参数。