Photomask clean 清洗機

最大適應方形基片尺寸：8×8inch
基片用途：可用於掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式：是由電機通過夾持機構帶動掩膜板做離心式旋轉。

• 配合常壓水清洗
• 高壓水清洗
• 兆聲波清洗
• 毛刷（Brush）清洗

有機溶劑清洗等方式作用：其中0.5微米以上顆粒的去除率接近100%。
再小於的顆粒去除率可根據客戶要求提供技術指標。